CIS400T高真空磁控离子溅射仪
2024年04月01日 21:15
| 设备简介 |
| CIS400T高真空磁控离子溅射仪是一款针对扫描电子显微镜样品处理、电极研究、微电子器件制备等的表面处理仪器。磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向，束缚和延长电子的运动路径，提高电子的电离概率和有效地利用了电子的能量。因此，在形成高密度等离子体的异常辉光放电中，正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效，同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点的机理。该设备采用单片机智能控制方式，配置7寸彩色触摸屏，整个仪器操作便捷、人际交互界面直观、性能稳定可靠。 |
| 性能指标 |
| 输入电压为AC220V±10％，50Hz，最大功率为800W，仪器工作环境为空气（纯度＞99.99%），温度5~40℃，湿度＜60％，真空室真空度优于5x10-3Pa，样品台旋转转速4-20rpm，氩气气源压力0.12-0.15Mpa。 |
| 仪器功能 |
1. 处理扫描电子显微镜样品
2. 研究电极
3. 制备微电子器件 |
| 应用范围 |
| CIS400T高真空磁控离子溅射仪适用于纤维、滤膜、高分子材料、电极制备、微电子器件制备等温度敏感样品。 |
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