图1(a)的TEM图像显示了4Y-ZnO具有核壳结构,其源于ZIF-8前驱体的菱形十二面体。图1(b)-(e)所示的mapping元素分布、晶面间距变化、EDS质量/原子百分比等结果,均证明成功实现了Y掺杂。 
图1. 4Y-ZnO的(a) TEM图,(b) mapping图,(c) HRTEM图,(d) SAED图,以及(e) EDS图及其对应的元素含量 对比ZnO和4Y-ZnO传感器对500 ppm NH3的响应-恢复特性发现,纯ZnO的测量响应时间和恢复时间分别为23 s和14 s,而4Y-ZnO分别为39 s和7 s。值得注意的是,尽管掺入Y后响应时间略有增加,但传感器的响应值显著提高了6.3倍,而恢复时间缩短了2倍,这表明Y掺杂有效加速了传感器的脱附过程。在20 ppm浓度下,该气体传感器成功实现了11的响应值,凸显了其卓越的低浓度检测能力。经线性回归分析计算,4Y-ZnO的检测限约为0.64 ppm,进一步证实了该传感器对痕量NH3的高灵敏度。4Y-ZnO对NH3响应表现出优异的长期稳定性、具备出色的NH3特异性识别能力。 
图2. (a) ZnO和(b) 4Y-ZnO在室温下对500 ppm NH3的响应/恢复时间;(c) 4Y-ZnO 在室温下对20–500 ppm NH3的动态响应/恢复曲线;(d) 响应值与NH3浓度的关系;(e) 4Y-ZnO传感器在30天内对500 ppm NH3的长期稳定性测量;(f) 所有样品对不同气体的选择性测试 计算了六种目标气体在Y-ZnO (001)晶面上的吸附能(图3(a–f)),利用以下方程解释实验中NH₃响应的特定增强现象: E_ads=E_tot-E_gas-E_substrate (1) 其中E_(tot)、E_(gas)和E_(substrate)分别代表气体吸附在ZnO表面时的总能量、吸附复合物的能量以及Y-ZnO晶面的能量。结果表明,NH3在Y-ZnO表面上的吸附能显著高于未掺杂模型,且在氧空位附近的位点表现出优先吸附。与其他气体相比,NH3的吸附能增幅最为显著,这表明掺杂与氧空位之间的协同作用显著促进了NH3与表面电子的相互作用。 
图3. (a) NH3、(b) C7H8、(c) C3H6O、(d) CH4O、(e) C2H6O以及(f) CH2O在Y-ZnO-OV-O26 (001)晶面上的吸附构型俯视和侧视图 |